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PVD涂層技術真空鍍膜流程原理及特點

時間:2024-06-04    點擊數:

PVD涂層技術真空鍍膜流程原理及特點可以歸納如下:

一、PVD涂層技術真空鍍膜流程原理

PVD(物理氣相沉積)涂層技術真空鍍膜的基本原理是在真空條件下,利用物理手段將固體靶材蒸發或濺射,使得蒸發的原子或離子沉積到基底表面形成薄膜。這一過程主要包括以下幾個步驟:

  1. 前處理工藝:褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾,確保鍍膜前產品表面的清潔。

  2. 鍍膜工藝:

    • 抽真空:將真空室內的殘余氣體抽走。

    • 加熱烘烤:爐體和工件同時加熱,加速殘余氣體的釋放。

    • 漏率測試(壓升率測試):測試爐體的漏氣率和放氣率,確保真空環境條件滿足鍍膜標準。

    • 轟擊清洗:去除工件表面的雜質,露出新鮮表面。

    • 鍍膜:通過蒸發或濺射的方式,將蒸發的原子或離子沉積到基底表面形成薄膜。

    • 冷卻出爐:避免工件氧化變色。

  3. 后處理工藝:清洗、拋光等,確保鍍膜質量。

二、PVD涂層技術真空鍍膜的特點

  1. 膜層附著力強:PVD涂層與工件表面結合力強,耐磨性好、耐腐蝕優異。

  2. 性能穩定:涂層致密性好,耐腐蝕性能強悍,涂層正常使用年限可達5年以上。

  3. 個性化定制:耐磨涂層顏色多樣,可滿足不同領域和個性化定制加工需求。

  4. 應用廣泛:PVD涂層技術已廣泛應用于不銹鋼制品、精密機械零配件、新能源汽車配件、自動化裝備、醫療機械等領域。

  5. 環境友好:PVD工藝對環境無不利影響,符合現代綠色制造的發展方向。

  6. 提高性能:經過涂層處理后的工具和精密元件,其性能將提高幾個數量級,如實現更高的性能、延長使用壽命、降低潤滑劑消耗等。

綜上所述,PVD涂層技術真空鍍膜具有獨特的流程原理和顯著的特點,使其在多個領域得到了廣泛應用。


本文網址:http://www.slji.cn/news/770.html

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